氨污染是指人类活动过程中产生和利用氨时对环境的污染。大气中氨的背景值浓度为小于10×10^-6。在空气中体积比达到16%～25%时为爆炸界限。
人工合成氨广泛用与医疗、化工、煤气工业等。在生物圈中，氨是固氮菌活动、氮化物的反硝化作用、有机氮和动物尿分解的产物。
光刻胶的光致反应活性产物大部分为偏酸性，因为会和环境中的含氨物质发生中和反应导致光致反应活性产物降低，从而引起关键尺寸和形貌的变化。
因此，对于先进光刻工艺，需要对环境中、衬底表面的碱性物质含量进行控制，**简单的可以使用底部抗反射涂层和顶部抗反射涂层来隔绝源于衬底和环境对光致抗蚀剂的污染。
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